硅旋轉(zhuǎn)靶采用等離子噴涂或者燒結(jié)綁定工藝，尺寸根據(jù)客戶要求定制。
硅平面靶采用拉晶生長(zhǎng)工藝，尺寸可根據(jù)客戶要求加工。
純度：99.9-99.999%應(yīng)用領(lǐng)域：薄膜太陽(yáng)能工業(yè)，低輻射玻璃工業(yè)，平板顯示工業(yè)，光學(xué)鍍膜工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，工具及裝飾鍍膜工業(yè)。
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